型号：MIS-560B型射频磁控溅射与离子束溅射仪

   简介：本设备可用于开发纳米级的单层及多层功能膜——各种硬质膜，金属膜，半导体膜，介质膜，铁磁膜等材料，为新材料和薄膜科学研究领域提供了十分理想的研制手段。 该仪器分为控制机柜区和样品制备区。控制机柜部分控制真空系统的开闭，还可以在实验过程中调整气体流量、腔室温度、溅射功率等参数。样品制备区包括射频磁控溅射腔室、离子束溅射腔室以及样品传送腔室三个部分。射频磁控溅射腔室为圆柱形腔室，腔室底部均匀排布有四个直径76mm的圆形位，靶位正上方45mm处有一个圆形样品转盘，样品转盘上的托盘放置架与靶位一一对应，在靶座和样品转盘之间还设有挡板，通过电机来控制其开闭。